硅片是由單晶硅或者多晶硅經過鋼線切割或者金剛線切割而來，切割后的硅片需要經過清洗劑的清洗，才能進行下一步操作，硅片的清洗效果直接影響最終的光電轉換率，所以選擇性能優(yōu)異的清洗劑尤為重要。

1.硅片清洗劑分析精度可以達到什么程度?

硅片清洗劑領域，我分析中心積累了非常豐富的剖析和開發(fā)經驗;整個項目可以達到九成以上的相似度;常見成分在1%以上可以準確定性定量。目前我研發(fā)針對客戶要求可對不同脫脂劑進行開發(fā)，滿足不同客戶要求。

2.怎么去分析硅片清洗劑配方，分析用到哪些儀器設備呢?

我分析中心拿到樣品后工程師首先進行評估(物理，化學方法)，評估后制定最佳分析流程進行分離測試，在分析的過程中一般常用的大型儀器設備有：核磁(NMR),氣質聯用(GCMS),質譜(MS),紅外(FTIR),X熒光分析儀(XRF)，液質聯用(LCMS)，熱重分析(TGA)等。

3.硅片清洗后出現白斑片是什么原因?

硅片清洗后出現白斑片是什么原因?出現這種情況可能的原因有線切割之后到清洗的時間過長，脫膠溫度過高 ，配方堿度過高。

4.硅片清洗后洗不干凈，有黑斑是什么原因?

可能原因有砂漿的殘留過多，切割液使用次數太多，建議及時更換切割液。

宏達威的HDW-950清洗劑適用于太陽能硅片上的切割液、油污、指紋、灰塵等的清洗，具有清洗徹底，易漂洗，無殘留等特點，適用于單晶硅，多晶硅的清洗。